光刻胶材料 -捕鱼平台app

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光刻胶材料
  • 彩色光刻胶
  • tft用正性光刻胶
  • 产品特性

    1、色彩表现:高穿透度、高饱和度、高对比度

    2、制程特性:高涂布均匀性、高感光度、较大显影制程窗口

    3、可靠度:高耐热性、高耐光性、高耐化学性、高储存稳定性

  • 产品分类

    依据客户需求调整规格

  • 形貌(sem)


  • 产品特性

    具有曝光灵敏度高、对比度高、分辨率高、且具有良好的工艺宽裕度。可应用于amoled、lcd及相关半导体制造工艺

  • 产品应用

    满足于i-线,g-线、g-h-i线曝光,可实现1.5μm分辨率

  • 参考工艺

    涂布:spin或slit
    前烘:110℃,160sec
    曝光: i-线,g-线、g-h-i线曝光
    显影:tmah 2.38% ,60s
    坚膜:130 ℃ ,140sec

  • 1.5um
  • 1.8um

  • 3um
  • 4um
  • 6um

  • 8um